中國傳EUV技術大突破　美晶片股重挫輝達跌近5%

根據科技媒體《The Information》報導，中國公司上海御量盛（Shanghai Yuliangsheng）已開始量產極紫外光（EUV）光刻機。這項關鍵技術先前僅由荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）獨家掌握。EUV 技術利用紫外光在矽晶圓上蝕刻微細電路，能在指甲大小的晶片上容納數百億個電晶體，是製造高效能處理器的核心技術。

法新社（AFP）曾嘗試聯繫上海御量盛，以及與該集團有聯繫的 SiCarrier 和華為（Huawei），但三家公司均未立即做出回應。若中國成功自主生產 EUV 光刻機，將能擺脫對艾司摩爾（ASML）的依賴，繞過歐盟以外的出口限制，進而加速中國晶片與人工智慧（AI）產業的發展，縮小與美國頂尖企業的技術差距。

此消息引發華爾街市場恐慌，美國主要半導體股週一應聲下跌。其中，超微（AMD）股價重挫高達 8%，輝達（Nvidia）與美光（Micron）均下跌近 5%，英特爾（Intel）也下跌 3.7%。

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